ANPC拓撲調製策略的特點及損耗分析(下)

日期2026-01-29

在上一篇(ANPC拓撲調製策略特點及損耗分析(上))中,我們討論了ANPC的基本原理、換流路徑以及調製策略。本文則透過PLECS模擬工具,分析在不同調製方式與運作條件下,ANPC各位置晶片的開關狀態與損耗分布情形。

 

 ANPC-PWM1設計實例 

 

由於不同特性和規格的晶片其靜態和動態參數各不相同,選用相同規格的晶片有助於分析損耗分布。因此,本次選擇Econodual3半橋模組FF900R12ME7來構建ANPC拓撲,並先採用ANPC-PWM1演算法進行調製。如下圖所示,以典型2.5MW PCS工況為例,獲得相應的損耗數據。

表1 2.5MW儲能變流器模擬運行工況

圖1 ANPC-PWM1損耗分布情況

 

從上圖可以看出,不同工作狀態下器件的整體損耗分布情況:

  • 在逆變運作條件下,損耗主要集中在T1/T4、T2/T3以及D5/D6。
  • 在無功工況下,損耗分布於各個元件,損耗占比由大到小依序為T5/T6、T1/T4、D2/D3、T2/T3、D5/D6、D1/D4。
  • 在整流運作狀態下,損耗主要集中在T5/T6、D2/D3,以及D1/D4。

 

將損耗進一步細分為導通損耗和開關損耗,可以得到圖2中器件的具體損耗情況。

圖2 ANPC-PWM1導通損耗與開關損耗占比

 

  • 在逆變運作條件下,T1/T4由於高頻切換,開關損耗所佔比例較大;T2/T3則分別在正半週和負半週導通,僅有導通損耗;D5/D6的導通損耗大於反向恢復損耗。
  • 在純無功工況下,由於包含逆變和整流過程,各個元件都會產生損耗,T1/T4 和 T5/T6 都有導通損耗和開關損耗,其中 T5/T6 的損耗相對最大。T2/T3 主要是導通損耗,D1/D4 和 D5/D6 的導通損耗相較於反向恢復損耗佔比較大,D2/D3 只有導通損耗,沒有反向恢復過程。
  • 在整流工況下,D1/D4 主要以導通損耗為主,反向恢復時也會產生損耗;D2/D3 僅有導通損耗,T5/T6 在整流時進行開關動作,同時存在導通損耗和開關損耗。

 

根據模擬結果可得知,ANPC-PWM1調變策略對各個位置晶片的面積需求,如下圖三所示:

圖3 ANPC-PWM1調變策略對晶片面積的需求

 

在實際應用中,不同的調製比和功率因數都會對晶片的損耗分布產生影響。較高的調製比會增加正電平或負電平路徑上晶片的損耗,而較低的調製比則會增加零電平路徑上晶片的損耗。不同的系統功率因數對應不同電壓與電流的重疊區域,也會影響導通路徑上的損耗持續時間,因此損耗分布也會呈現出有別於典型工況的結果。

 

以下以典型的功率因數PF=1、PF=0和PF=-1,以及不同的調製比為例,對比分析各項因素對損耗分布的影響。在模擬過程中,保持其他直流側參數不變,並固定輸出電流,只改變功率因數和調製比進行模擬。

圖4 PF=1時,ANPC-PWM1在不同調製比下的損耗分佈

 

圖4顯示在PF=1的情況下,不同調製比下的損耗分佈。可以看出,當調製比降低時,T1/T4的導通時間縮短,因此相對應的導通損耗也隨之降低,而開關損耗則基本持平;至於T2/T3,由於調製比降低後電流路徑轉移至零電平迴路,T2/T3仍然會產生導通損耗,因此與較高調製比時的導通損耗差異不大;而D5/D6因為導通時間變長,導通損耗有所增加。

圖5 PF=-1時,ANPC-PWM1在不同調製比下的損耗分布

 

圖5顯示在PF=-1的情況下,不同調製比下的損耗分布。損耗主要集中在D1/D4、D2/D3以及T5/T6上。當調製比降低時,零電平路徑T5/T6的導通損耗上升,而D1/D4的導通損耗則降低。D2/D3的損耗均為導通損耗,且D2/D3的導通損耗保持不變。

圖6 PF=0時,ANPC-PWM1在不同調製比下的損耗分佈

 

圖6顯示在PF=0的情況下,不同調製比下的損耗分布。在純無功運作條件下,調製比降低後,T2/T3和D2/D3的損耗沒有變化,但由於導通時間的變化,T1/T4和D1/D4晶片上的損耗會轉移到T5/T6和D5/D6晶片上。

 

 ANPC-PWM2設計實例 

 

如同上一篇文章所提到,ANPC2調製策略的開關邏輯與ANPC-PWM1有所不同,T2/T3需要進行高頻開關動作,因此其損耗占比較大。F3L3MR12W3M1H模組是基於ANPC-PWM2設計,用於高效率的215kW PCS,其中高頻開關M2/M3採用SiC晶片,四個工頻開關T1/T4/T5/T6則使用IGBT晶片。表2為215kW PCS運作條件下的模擬參數,根據F3L3MR12W3M1H_H11得到的損耗數據如圖7所示。

表2 215kW儲能變流器模擬運行工況

圖7 ANPC-PWM2在不同工作模式下的損耗分布

 

根據模擬結果可以看出,在ANPC-PWM2調製中,高頻SiC晶片在各種工作模式下的損耗比例遠高於IGBT晶片,模組的大部分損耗都集中在SiC晶片上。其中,SiC晶片的性能、散熱以及晶片可靠性等綜合因素,決定了系統性能的優劣以及長期運行的可靠性。

圖8 ANPC-PWM2調變策略對晶片面積的需求

 

圖8顯示了ANPC-PWM2調變演算法所需的晶片面積占比。在相應的模組中,根據損耗分布來配置合理的晶片面積,能夠均衡各個晶片的溫升,進而獲得最佳的輸出能力與效率。

 

 總結 

 

本文結合PLECS模擬,與大家一同探討不同ANPC調變策略的特點,分析晶片的損耗分布,以及在不同工作模式和調變比下晶片損耗分布的變化。透過模擬數據,可以更深入理解ANPC調變策略的特性與差異。

 

 

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